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您現(xiàn)在的位置: 醫(yī)學全在線 >> 藥學理論 >> 中國藥品專利文獻 >> 正文:二苯甲基衍生物專利檢索:專利號/專利人/發(fā)明人
    

二苯甲基衍生物

公開(公告)號 CN1620451A  
公開(公告)日 2005.05.25  
申請(專利)號 CN02828143.8  
申請日期 2002.12.16  
專利名稱 二苯甲基衍生物  
主分類號 C07D403/06  
分類號 C07D403/06;C07D487/04;A61K31/506;A61P11/06;A61P27/14  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權(quán) 2001.12.21 AU PR9707  
申請(專利權(quán))人 藤澤藥品工業(yè)株式會社  
發(fā)明(設計)人 岳一彥;笠原千義;重永信次;永久良輝;東條隆  
地址 日本大阪府大阪市  
頒證日  
國際申請 PCT/JP2002/013156 2002.12.16  
進入國家日期 2004.08.16  
專利代理機構(gòu) 中國專利代理(香港)有限公司  
代理人 孟凡宏  
國省代碼 日本;JP  
主權(quán)項 下式(I)所示化合物及其鹽,其中為或其中,R1和R2獨立為氫、鹵素或低級烷基,R7為氫、低級烷基羰基或任選被低級烷基取代的吡唑基(低級)烷基,R8為氫或低級烷酰基基,R9為氫;任選被1、2或3個選自羥基、低級烷氧基、鹵素、羥基(低級)烷基、乙;被、一(或二)(低級)烷基氨基和吡啶基的取代基取代的低級烷;;二(低級)烷基氨基甲酰基;雙(羥基(低級)烷基)氨基甲酰基;芐氧基羰基;苯甲;换蛉芜x被1或2個選自羥基、低級烷基、低級烷氧基、氨基、氨基甲;脱鯓虻娜〈〈碾s環(huán)羰基,R3、R4和R5獨立為氫;鹵素;低級烷基;環(huán)(低級)烷基;環(huán)(低級)烷氧基;任選被1、2或3個鹵素取代的低級烷氧基;或任選被1、2或3個鹵素取代的低級烷;,R6為氫或低級烷基。  
摘要 式(I)的化合物或其鹽,其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9分別如說明書中的定義。本發(fā)明的目的化合物具有藥理學活性如速激肽拮抗作用,可用于制備治療或預防速激肽介導疾病的藥物。  
國際公布 WO2003/053957 英 2003.7.3  
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