| 公開(公告)號 | CN1856488A |
| 公開(公告)日 | 2006.11.01 |
| 申請(專利)號 | CN200480027923.0 |
| 申請日期 | 2004.09.24 |
| 專利名稱 | 氨甲酰型苯并呋喃衍生物 |
| 主分類號 | C07D405/12(2006.01)I |
| 分類號 | C07D405/12(2006.01)I;C07D405/14(2006.01)I;C07D407/14(2006.01)I;A61K31/4545(2006.01)I;A61K31/4439(2006.01)I;A61K31/4433(2006.01)I;A61K31/443(2006.01)I;A61P7/02(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2003.9.26 JP 334597/2003 |
| 申請(專利權(quán))人 | 田邊制藥株式會社 |
| 發(fā)明(設計)人 | 川口隆行;赤塚英則;森本政道;渡邊達也;飯島徹;村上潤 |
| 地址 | 日本大阪府大阪市 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2004-09-24 PCT/JP2004/013891 |
| 進入國家日期 | 2006.03.27 |
| 專利代理機構(gòu) | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 劉維升;黃可峻 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 式[1]的氨甲酰型苯并呋喃衍生物或其藥學可接受的鹽： 其中環(huán)Z是下式的基團：或 A是單鍵或式-NH-的基團； Y是低級亞烷基，環(huán)烷二基，苯基或飽和雜環(huán)基團； R4和R5是相同的或不同的，并且各自是氫原子、任選被取代的低級烷基或任選被取代的飽和雜環(huán)基團，或R4和R5在末端結(jié)合，與鄰接氮原子一起形成任選被取代的含氮飽和雜環(huán)基團； R1是氫原子，鹵素原子，低級烷基，低級烷氧基，氰基，或任選被1至2個低級烷基取代的氨基； 下式的環(huán)B： 是任選被取代的苯環(huán)；和 R3是氫原子或低級烷基。 |
| 摘要 | 用作例如Fxa抑制劑的藥物的由通式[1]代表的氨甲酰型苯并呋喃衍生物或其藥學上可接受的鹽：[1]其中Z是由式[2]代表的基團等等；[2]A是自由的單鍵等等；Y是環(huán)烷二基等等；R4和R5各自獨立地為任選取代的低級烷基等等；R1是鹵素等等；環(huán)B由式[3]代表；[3]是任選取代的苯環(huán)；和R3是氫等等。 |
| 國際公布 | 2005-04-07 WO2005/030759 日 |
